X'inhi d-differenza bejn kisi ta 'l-ilma PVD, kisi bil-vakwu, sputtering u kisi

Apr 23, 2024

Ħalli messaġġ

X'inhu PVD? Hemm xi differenza bejn PVD u electroplating? X'inhi d-differenza bejn kisi ta 'l-ilma, kisi bil-vakwu, sputtering u kisi?

It-teknoloġija PVD hija proċess li juża proċessi fiżiċi biex jittrasferixxi materjali, jittrasferixxi atomi jew molekuli mis-sors għall-wiċċ tas-sottostrat. Permezz ta 'din it-teknoloġija, ċerti partiċelli bi proprjetajiet speċjali (bħal saħħa għolja, reżistenza għall-ilbies, dissipazzjoni tas-sħana, reżistenza għall-korrużjoni, eċċ.) jistgħu jiġu sprejjati fuq matriċi b'rendiment aktar baxx, sabiex il-matriċi jkollha prestazzjoni aħjar. Metodi bażiċi PVD jinkludu evaporazzjoni bil-vakwu, sputtering u kisi tal-jone.

It-teknoloġija PVD għandha l-karatteristiċi ta 'saff ta' kisi dens u uniformi, adeżjoni qawwija, proprjetajiet tajbin ta 'kisi, veloċità ta' depożizzjoni mgħaġġla, temperatura baxxa ta 'proċessar, u firxa wiesgħa ta' materjali tal-kisi. Għalhekk, it-teknoloġija PVD tintuża ħafna fil-qasam tal-inġinerija tat-trattament tal-wiċċ u hija waħda mill-aħjar għażliet. Barra minn hekk, il-proċess tal-kisi tal-PVD innifsu huwa wkoll reazzjoni glow taħt stat ta 'temperatura għolja u qasam tal-plażma, li għandu proċess ta' purifikazzjoni għoli. Barra minn hekk, il-materja prima ewlenija tal-prodotti PVD hija metall tat-titanju. It-titanju huwa l-metall bl-ogħla affinità għall-ġilda tal-bniedem fost il-metalli, li jagħmel il-prodotti PVD puri u favur l-ambjent.

It-teknoloġija PVD tista 'tipproduċi eluf ta' kuluri u tista 'saħansitra timita kuluri misjuba fin-natura. Pereżempju, is-serje tad-deheb tinkludi deheb Ewropew (2N18 u 1N14), deheb Ġappuniż (GY01), deheb Ċiniż (GY2N), eċċ .; is-serje tal-kafè tinkludi kafè skur, kafè ħafif, kafè medju, eċċ.; is-serje sewda tinkludi kulur tal-pistola, griż, iswed super, eċċ; Serje tal-moda jinkludu kulur spazjali, kulur xampanja, kulur kaki, eċċ. Għalhekk, it-teknoloġija PVD għandha flessibilità u diversità kbira fl-għażla tal-kulur.

Differenti mit-teknoloġija PVD, it-teknoloġija tal-kisi tal-ilma hija metodu tradizzjonali tal-electroplating u mod kif tirrealizza l-proċess elettrokimiku. Juża elettrodi pożittivi u negattivi f'tank tal-kisi taħt l-azzjoni tal-kurrent biex tinkiseb id-depożizzjoni ta 'films tal-metall jew mhux tal-metall. Il-kisi tal-ilma normalment jista 'jikseb kisjiet tal-wiċċ bħal kisi tad-deheb, kisi tal-fidda, kisi tan-nikil, kisi tal-kromju, u kisi tal-kadmju, iżda s-soluzzjoni tal-electroplating tagħha għandha problemi kbar ta' tniġġis. Il-kisi tal-ilma jinkludi wkoll żewġ tipi: electroplating u kisi kimiku. L-electroplating huwa adattat għal dekorazzjoni tal-wiċċ minħabba li jipprovdi wiċċ ta 'luminożità għolja, filwaqt li kisi kimiku għandu wiċċ aktar skur u huwa adattat għal kisjiet kontra l-korrużjoni.

Evaporazzjoni bil-vakwu, sputtering u kisi tal-jone huma l-metodi ewlenin tat-teknoloġija PVD. Fosthom, il-metodu ta 'evaporazzjoni bil-vakwu jisħon u jdub il-metall taħt kundizzjonijiet ta' vakwu għoli, u jikkawża li jevapora u jiddepożita fuq il-wiċċ tal-kampjun biex jifforma film tal-metall. Sputtering normalment jirreferi għal magnetron sputtering, li jeħtieġ grad ta 'vakwu ta' madwar 1×10-3Torr. Il-kurrent dirett ta 'vultaġġ għoli huwa miżjud bejn is-sottostrat tal-plastik u l-mira tal-metall, u l-iskariku li jleqq huwa użat biex jitfa' l-atomi tal-mira tal-metall. , u ddepożitat fuq sottostrat tal-plastik. Il-kisi tal-joni huwa metodu li juża skariku tal-gass biex jonizza parzjalment gass jew sustanzi evaporati, u jiddepożita sustanzi evaporati jew il-prodotti ta 'reazzjoni tagħhom fuq is-sottostrat taħt il-bumbardament ta' joni tal-gass jew joni tas-sustanza evaporata.

Il-kisja hija teknoloġija li tuża metodi elettrokimiċi rapidi biex tiddepożita lokalment metall fuq il-wiċċ tal-biċċiet tax-xogħol tal-metall. Hija teknoloġija ta 'proċessar elettrokimiku fil-prinċipju u essenzjalment. Matul il-proċess tal-kisi, joni tal-metall huma depożitati fuq il-katodu permezz tas-soluzzjoni tal-kisi taħt l-azzjoni tal-kamp elettriku, li jiffurmaw film irqiq. Il-kisi huwa komunement użat fil-kisi tal-kromju, il-kisi tan-nikil u applikazzjonijiet oħra.

Fil-qosor, it-teknoloġija PVD tipprovdi teknoloġija ta 'kisi tal-jone ta' teknoloġija għolja u użata ħafna b'ħafna vantaġġi, inkluż kulur varjabbli, kisi dens u uniformi, adeżjoni qawwija u temperatura baxxa ta 'proċessar. Meta mqabbla ma 'teknoloġiji tradizzjonali bħal kisi u kisi ta' l-ilma, it-teknoloġija PVD tintuża ħafna fi prodotti u oqsma ta 'kwalità għolja u ta' domanda għolja.

Ibgħat l-inkjesta